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GD90-RF射頻輝光放電質譜儀
GDMS技術使原子(zǐ)化（碎片化）過程與離子(zǐ哥作)化過程分開(kāi)進行，故而可容易的對pp拿不b至ppt級别的痕量雜質進行測量。此法還使得(de)GDMS技術擁有麗音小(xiǎo)的基體效應且無須特定參照材料。它有下可對金(jīn)屬與合金(jīn)進行全掃描分析，可對半導體進行整體的測麗雜量分析，可對多層結構與鍍層進行深度剖析。是包括金(j喝看īn)屬、合金(jīn)、半導體以及緣體等高純材料的生産與質量控制的理想工(拍用gōng)具。
GD90-RF射頻輝光放電質譜儀主要由三部分構成：輝光放電離子(zǐ)源、質量愛信分析器(qì)、檢測器(qì)。另外還包括一些輔助系統，雜低如(rú)真空系統、離子(zǐ)光學系統、電學系統和數據采集控制系統等。而GD著唱90-RF射頻輝光放電質譜儀具有靈活的雙離子(zǐ)源系統：直視一流源（DC）和射頻源（RF）。GD90-RF離子(z好新ǐ)源包含直流源和射頻源，切換簡單方便，可以直接分析不(bù)同尺寸的子舊塊狀、針狀及粉末樣品。高電離阈值材料離子(zǐ)源室，有效避免電離時(s火電hí)帶來的污染。
GD90-RF射頻輝光放電質譜儀的主要特性：
1、對塊狀、針狀或粉末狀的導體或非導體樣品進行直接分析；
2、高分辨率，特别是對于有幹擾離子(zǐ)自他存在的測定而言十分重要；
3、廣泛的元素涵蓋範圍，軟件中包括70個元素相關的幹擾離子(zǐ)數據；冷媽
4、由于原子(zǐ)化和離子(zǐ)化過程發生在不(bù)同站答區域，帶來可忽略的基體效應；
5、低(dī)至亞ppb級的檢測限；
6、具有深度剖析能力；
7、少的樣品制備過程。
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